离子镀膜剂有什么作用(离子镀膜剂使用方法)

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内容摘要:(1)空心阴极离子镀(HCD)。它是利用空心热阴极放电产生等离子电子束。这种离子镀技术具有下列特点:1HCD空心阴极枪既是膜料气化的热源又是蒸发粒子的离化源,离化方式是利用低压电子束碰撞;5离化效率高,电子束斑较大,各种膜都能镀。

离子镀膜剂的作用是抗氧化、防老化、抗腐蚀,提升车辆表面漆面的光泽度,使漆面看起来更加艳丽、绚丽多彩。

离子镀膜的基本过程包含镀料蒸发、离化、离子加快、离子轰击工件表面、离子或原子之间反应、离子的中合、成膜等过程,而且这些过程是在真空、气体放电的条件下完成的。一般情况下,离子镀设备由真空室、蒸发源(或气源、溅射源等)、高压电源、离化设备、摆放工件的阴极等部分组成。不同种类的离子镀方式选择不同的真空值;镀料汽化选择不同的加温蒸发方法;蒸发颗粒及反应气体选择不同的电离及激起方法等。这里简单介绍几种常见离子镀的主要特征。

(1)空心阴极离子镀(HCD)。

这是运用空心热阴极放电产生等离子离子束。这类离子镀技术具有以下特点:1HCD空心阴极枪既是膜料汽化的热原也是蒸发粒子的离化源,离化方法是运用低压离子束撞击;2用0V 至数百伏的加速电压,离化和离子加快单独操作;3能良好地开展反应性离子镀;4基材温升小,镀膜时还要对基材加温;5离化效率高,离子束斑较大,各种膜都能镀。

(2)多弧离子镀。

这是把真空弧光放电用于蒸发源的镀膜技术,又称真空弧光蒸镀法。蒸镀时阴极表面出现很多非常小的弧光辉点,把这种技术产品化的美国 Muli-Arc企业的译名译为多弧,所以一般称为多弧法。若是在工作室中通入所需的反应气体,则能生成膜层致密匀称、粘附性能优良的化合物膜层。多弧离子镀可设置多个弧源,为了获取好的绕射性,可独立控制每个源。这种设备可用来制作多层结构膜、合金膜、化合物膜。

多弧离子镀的特点是∶1从阴极直接产生等离子体,不用溶池,弧源可随意方位、多源布局;2设备构造较简单,不需要工作气体,也不需要辅助的离子化方式,弧源既是阴极材料的蒸发源,也是离子源,但在开展反应性堆积时只有反应气体存有,气氛的控制仅是简单的全压强控制;3离化率大,一般可达60%~80%,沉积速率高;4入射离子能量高,堆积膜质量以及粘附性能好;5选用低压电源工作,比较安全。多弧离子镀的应用面广,经济实用,尤其在高速钢刀具和不锈钢板表面上镀覆 TiN 膜层等方面发展最为快速。

多弧离子镀制取薄膜的关键问题是存在大液体状况。图1-5和图1-6各自显示了电孤离子镀制取 ZrN 和 TiAlN 薄膜的截面和表面形貌。可以观察到贯穿整个薄膜厚度的大液体产生的大颗粒。大颗粒加大了薄膜的表面粗糙度,明显恶变薄膜的性能。为了消除大液体状况,给出了磁过滤真空阴极电孤离子镀。

(3)磁过滤真空阴极电孤离子镀。

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